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原标题:中科院突破5nm光刻技术垄断？事实很残酷，但它是一把双刃剑
在过去的半年里，关于中国科学院“突破ASML垄断”、“在没有EUV光刻机的情况下制造5纳米芯片”的消息从媒体圈爆发出来。然而，真的是这样吗？
《财经新媒体》最近的报道揭示了真相:今年7月，中国科学院苏州研究所联合国纳米中心在《纳米快报》上发表了题为“超分辨率激光光刻制备5 nm Gap电极和阵列”的研究论文，介绍了该团队开发的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。
本文的通讯作者、博士生导师刘谦特别强调，“不需要EUV光刻机就能制造5纳米芯片”是一种误解，超分辨率激光光刻和极紫外光刻技术是两回事。中科院开发的5nm超高精度激光光刻法，主要目的是制作光掩模，因为国产掩模板以低端为主，设备材料和技术多来自国外。
消息一出，网民的热情开始降温，但这件事其实是一把双刃剑。一方面，5nm芯片设备的约束依然存在；另一方面，至少说明我们在5nm相关光刻领域又向前迈进了一步。一口气吃不胖，脚踏实地就能造出5G时代100%国产的芯片。
“中科院突破5纳米技术”的消息在网上热议
自2020年7月以来，互联网上爆发了“中国科学院突破5纳米技术打破EUV光刻机垄断”的话题。相关新闻提到，中科院论文中介绍了一种新开发的“5 nm超高精度激光光刻加工方法”，点燃了国内芯片产业腾飞的希望。连续几个月，这件事一直在媒体上热议。
本文发表于2020年7月，随后发表在国际知名期刊《纳米快报》上。当时，中国科学院发布新闻稿称，研究团队针对激光微纳加工面临的实际问题，解决了高效率与高精度的内在矛盾，开发的微纳加工新技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等诸多微纳加工领域显示出广阔的应用前景。
青岛大学新闻网2020年7月10日报道，近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员张紫阳、国家纳米中心研究员刘谦与青岛大学物理科学学院讲师夏风合作。在《纳米快报》上发表了一篇题为“超分辨率激光光刻5纳米纳米间隙电极和阵列”的研究论文，报道了一种新的5纳米超高精度激光光刻加工方法。苏州纳米技术研究所的研究生和黄，以及物理科学学院的是该论文的合著者。张紫阳和刘谦是这篇论文的通讯作者。
据媒体评论，5 nm光刻新技术已经取得突破，只要在设备厂家和厂商上再次取得突破，5 nm直接光刻技术在未来可能会很好的应用到生产中。
真的是这样吗？
该报纸时事通讯的作者刘谦解释说:这是一个误解
据《财经新媒体》12月2日发布的一份文件显示，2020年7月，中国科学院官网公布，苏州研究所国家纳米中心在《纳米快报》上发表了一篇题为《超分辨率激光光刻制作5 nm纳米间隙电极和阵列》的研究论文，介绍了一种新的5 nm超高精度激光光刻加工方法。
消息引起外界沸沸扬扬，有媒体声称“突破ASML垄断”，“中芯大有进步”，“中国不用EUV光刻机也能生产5 nm工艺的芯片”。
然而，本文作者、中国科学院研究员、博士生导师刘谦最近表示，存在一个误解。这种新的5 nm技术和极紫外光刻技术是两回事。极紫外光刻技术主要解决光源波长的问题。中科院开发的5 nm超高精度激光光刻加工方法的主要目的是制作光掩模，光掩模是集成电路光刻制造中不可缺少的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。
目前国内生产的口罩以中低端为主，设备材料和技术大部分来自国外。如果能够利用超高精度激光光刻技术制造高精度掩模板，有望提高我国掩模板的制造水平，对于降低现有光刻机中芯片的线宽也非常有利。这项技术在知识产权上完全独立，成本可能比目前低，因此具有产业化前景。
然而，即使这项技术被商业化，仍有许多核心技术需要突破，如透镜的数值孔径和光源的波长，以突破ASML(纳斯达克:ASML)在光刻机方面的垄断。
而且，EUV光刻机并不是ASML独家贡献的，其核心部件近90%来自世界各地的不同企业，ASML通过收购打通了上游产业链。目前没有一个国家能自主制造光刻机。
以一个国家的实力，中国几乎不可能在短时间内突破ASML在极紫外光刻方面的技术垄断。
对中国制造5纳米芯片能力的误解只是一把双刃剑
一句话给之前沸沸扬扬的媒体、业内人士、网友泼了一盆冷水，正如博士生导师刘谦所说:ASML制造的紫外光刻机通过:2007年100%收购美国计算光刻公司瑞初科技；2013年100%收购美国曙光光源设备公司西盟科技；2016年100%收购中国台湾电子束检测设备公司韩伟科；2016年，收购德国卡尔·蔡司光学镜片集团公司24.90%的股份；2019年，公司收购了荷兰电子束光刻机公司Mapper等等。光靠一个国家的实力是很难白手起家的！
但冷静而微妙的分析后，其实可以发现，中科院突破超分辨率激光光刻制备5 nm高精度掩模板技术的消息引发的乌龙欢呼事件，其实是一把双刃剑。
从悲观的角度来看，国外对5nm芯片制造设备的垄断依然存在，100%国产化之路还很遥远，不能高兴的太早；另一方面，如果乐观分析的话，至少可以说明我们在5nm光刻领域突破了另一项技术，向前迈进了一步，在这个领域的话语权有了一定程度的增加。
俗话说“一口气吃不胖”“冰冻三尺，非一日之寒”，5G高速发展的时代，100%国产芯片是有可能造出来的。
来源:通讯信息报
